光谱共焦厚高测量仪系统解决方案

光谱共焦厚高测量仪系统解决方案

产品概述及原理

光谱共焦厚高测量仪系统的特点是非接触, 非破坏方式测量，无需样品的前处理，软件支持Windows操作系统等。光谱共焦厚高测量仪系统是利用白光干涉测量的原理，对样品进行高度及厚度测量及分析。用一个宽波段的光源来测得不同波长的反射数据，由于反射率和随膜厚的不同而变化，光谱共焦厚高测量仪根据这一特性来进行曲线拟合从而求得样品的厚度与高度。

产品优势与特点

采用光谱共焦技术，非接触测量。高性能纳米级检测设备，检测速度快，测量精度可达正负0.1um，核心部件使用高分辨率、高灵敏度光纤光谱仪，多达3648像素的CCD阵列，为测量结果的准确性提供了可靠的保证。

产品应用领域

它非常适合测量半导体、LCD、TFT、PDP、LED、触摸屏、汽车车灯、医学、太阳能、聚合物薄膜、眼镜等光学元件的膜厚测量。

产品技术参数

 量程 2500um

 线性度 0.3um

 分辨率 0.3um

 光斑直径 14um

工业紫外可见光纤光谱仪

宽谱光纤光谱仪

2W脉冲氙灯

氘灯光源